«Современные методы анализа жидких химических реактивов и деионизированной воды в микроэлектронике»
Форма обучения: очная, в том числе с использованием электронных и дистанционных образовательных технологий

Количество слушателей в группе для дистанционного обучения: 5-12

Количество часов: 72 ак.часа

Количество часов: 72 ак. часа.

Форма обучения: очная, в том числе с использованием электронных и дистанционных образовательных технологий.

Количество слушателей в группе для дистанционного обучения: 5-12.

Требования к образованию
К освоению программы допускаются лица, имеющие или получающие высшее (бакалавриат, магистратура) и (или) среднее профессиональное образование.

Категория слушателей:
  • Специалисты химико-аналитических лабораторий, выполняющие расчёты показатели точности результатов измерений;
  • Специалисты в области метрологии и стандартизации, отвечающие за валидацию методик и внутрилабораторный контроль;
  • Руководители и ведущие эксперты лабораторий, осуществляющие контроль качества.

Цель реализации программы
Формирование у слушателей устойчивых практических навыков применения современных методов расчёта с использованием специализированного программного обеспечения для решения конкретных метрологических задач; формирование понимания принципов и методологий атомно-силовой микроскопии (АСМ) для выявления, характеризации и анализа наноразмерных дефектов, возникающих на поверхностях в результате обработки жидкими химическими реактивами и деионизованной водой (ДИВ) в микроэлектронных технологиях.

Содержание программы
Модуль 1. Автоматизация расчетов метрологических характеристик в количественном химическом анализе.
1.1. Введение в метрологию химического анализа. Основополагающие документы. Контроль качества анализа;
1.2. Правильность и прецизионность методики анализа. Статистическая обработка данных;
1.3. Контрольные карты Шухарта;
1.4. Неопределенность измерений в химическом анализе.
Модуль 2. Автоматизация расчетов метрологических характеристик в количественном химическом анализе.
2.1. Введение: Дефектность поверхностей в микроэлектронике и роль технологических жидкостей;
2.2. Теоретические и методические основы Атомно-Силовой Микроскопии (АСМ);
2.3. Методологии АСМ для анализа дефектности;
2.4. Решение прикладных задач микроэлектроники: анализ дефектов от жидкостей;
2.5. Интеграция данных АСМ и комплексные системы контроля.

Планируемые результаты обучения
  • Статистическая обработка данных и расчёт метрологических характеристик погрешности по РМГ 61;
  • Полный цикл расчёта неопределённости по руководствам «Еврохим СИТАК»;
  • Освоение ключевых аспектов работы с АСМ: пробоподготовка поверхностей после жидкостной обработки, выбор режимов и параметров сканирования, калибровка, интерпретация мультипараметрических данных (топография, фаза, адгезия, модуль упругости).

Документ об обучении
Удостоверение о повышении квалификации/Сертификат внутреннего образца

Стоимость обучения

Форма обучения

Количество ак. часов

Стоимость за 1 чел.

Очная

(с использованием ДОТ)

72

120 000 рублей



Свяжитесь с нами
+7 (495) 229 70 64
neo@niime.ru
ул.Академика Валиева, д.6, стр.1
Made on
Tilda